NGU lezing: Lithografie bij 13.5 nm; uitdagingen in productie en materialen
NGU lezing: Lithografie bij 13.5 nm; uitdagingen in productie en materialen

De NGU lezing van juni! Wim van der Zanden van ASML en de radboud universiteit zal vertellen over Lithografie bij 13.5 nm. Als je je voor 13 juni 16:30 inschrijft  krijg je gratis pizza bij de bankjes van het KBG om 19:00. De lezing zelf begint om 20:00. Hieronder vind je de samenvatting:

ASML introduceert de nieuwste lithografie machines in de halfgeleider industrie. Deze machines beelden patronen die uiteindelijk chips vormen af op silicium wafers en vormen een belangrjk onderdeel in het proces van chipproductie. Verkleining van de golflengte maakt het mogelijk om kleinere details te “schrijven”. De huidige standaard is 193 nm belichtingen. De nieuwste machines produceren licht bij 13.5 nm, een grote stap voor de technologie. Het maken van EUV, transport en afbeelding vereisen de ontwikkeling van een machine volledige in vacuüm, de vervanging van lenzen door een spiegel afbeeldingssysteem en de ontwikkeling van efficiënt EUV genererend proces. In mijn verhaal zal ik de markt en de uitdagingen van ASML daarin toelichten en de aspecten van de fysica bij de productie van EUV en het transport door de zogenoemde scanner uitleggen.